LS 13 320 XR 激光衍射粒度分析儀是一款全自動、高準確性、高分辨率、高重現(xiàn)性以及操作非常簡單的干濕兩用粒度分析儀，采用全程 Mie 光散射理論并提供 Fraunhofer 理論模型。LS 13 320 XR 配備有多種新型的樣品進樣模塊，“即插即用”，滿足不同的分析要求，靈活便利；的 PIDS 技術（號：4953978，5104221），真正實現(xiàn) 10nm 粒徑測量；直觀的軟件和觸摸屏設計，大大簡化了儀器的操作。LS 13 320 XR 將為您開啟全新的測量體驗！

1）寬測量范圍：10 nm - 3,500 μm

提供真實（峰值）、高分辨率的測試數(shù)據(jù)，下限低至10 nm，上限高達 3,500 μm

2） 升級版 PIDS 技術：偏振光強度差散射

提高原始數(shù)據(jù)檢測精度，提高檢測器檢測垂直和水平偏振散射光的靈敏度，真正實現(xiàn)亞微米級粒度分析 - 以往極難達到的測量能力

3） 多峰自動檢測
測量前無需估計粒度分布情況（比如多峰、窄分布），便可獲得正確的測量結果。

4 ）簡單、直觀的操作軟件
? 從開始測量到獲得結果僅需 2 次點擊
? 包含一個集成的光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫
? 隨時向您通報有用的用戶診斷報告
? 精簡的工作流不僅易于使用，更節(jié)省時間
這是《生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范（GMP）》和其它法規(guī)要求所必須的。
LS 13 320 XR 激光衍射粒度分布分析儀配備符合 GMP 要求的驗證程序，可滿足安裝驗證（IQ）和運行驗證（OQ）所需。

FDA的《電子記錄和電子簽名規(guī)則》（21 CFR第11部分）規(guī)定了提交電子文件的要求。選擇軟件的安全等級，系統(tǒng)將自動調(diào)節(jié)以下配置， 以符合該法規(guī)要求：

? 用戶安全登錄
? 用戶權限
? 審查跟蹤
? 錯誤日志文件
? 管理配置工具

比以往更高效的粒度分析

LS 13 320 XR 軟件的功能界面更加直觀，非常易于使用，您無需具備大量的操作知識便可輕松獲得準確的數(shù)據(jù)。

開始測量：
檢測方法一旦在 LS 13 320 XR 軟件中設定，僅需點擊 2 次便可開始測量。選擇預先設定的方法，編輯樣品信息，然后點擊開始測量。

儀器自檢結果：
儀器配備有自檢診斷功能，測試過程中隨時顯示測量情況。

自動合格/不合格管理，實現(xiàn)直接質(zhì)控：
為檢驗樣品合格/不合格，LS 13 320 XR 軟件自動對測量結果標注綠色或紅色，提示其是否符合所需規(guī)格。因此，無論操作人員經(jīng)驗如何，均可通過該功能迅速了解樣品質(zhì)量情況。

導航輪：
顯示和導出數(shù)據(jù)僅需點擊 1 次。

細節(jié)尤為重要！樣本間極細微的差異，會導致成品間出現(xiàn)巨大差異。
這也是為什么 LS 13 320 XR 激光衍射粒度分布分析儀采用 132 枚檢測器的原因，其可以提供更高的分辨率，獲得更準確的檢測結果，同時實現(xiàn) 10 nm - 3,500 μm 的寬范圍測量。

X-D陣列檢測器 - 確保高分辨率的準確測量
? 設計的 X 型對數(shù)排布檢測器陣列，可以準確記錄散射光強信號，獲得真實準確的粒度分布
? 132 枚檢測器能夠清晰區(qū)分不同粒度等級間散射光強譜圖差異，快速、準確的提供真實粒度分布
? 優(yōu)化的檢測器信噪比，大大提高了檢測到散射光強譜圖細微變化的能力
? 亞微米檢測區(qū)域，應用 6 枚檢測器對三種不同波長的光在垂直和水平偏振方向上進行 36 個單獨檢測，提供納米級顆粒優(yōu)異的準確性和高分辨率

多峰樣品自動檢測，更放心
? 憑借業(yè)界出眾的技術，無需預估樣品峰型，無需選擇分析模型，輕松準確分析多峰樣品，讓您對測試結果更放心
? 準確性誤差優(yōu)于 ±0.5%
? 重復性誤差優(yōu)于 ±0.5%

創(chuàng)新不止，重磅升級，基于升級版 PIDS 技術，LS 13 320 XR 真正實現(xiàn)納米級測量，提供亞微米顆粒更高分辨率的粒度分析，下限可準確檢測至 10nm！

PIDS 技術：偏振光強度差散射
傳統(tǒng)方法測量亞微米顆粒的散射光強譜圖在形狀和強度上都非常相似，區(qū)分比較困難，因此當測量亞微米顆粒時，由于分辨率低而造成不準確的粒度測量。而亞微米顆粒在水平和垂直偏振光下可形成差異的散射譜圖，而這些差異便是亞微米顆粒識別的重要信息。PIDS技術采用了 3 種不同波長的光順次照射樣品，首先為垂直偏振，
然后為水平偏振，通過分析每個波長的水平和垂直輻射光之間的差異，便可獲得亞微米樣品準確的粒度分布信息。
升級版 PIDS 技術從光源到濾波器再到檢測器都進行了全面的升級，使得測量亞微米顆粒的動態(tài)范圍和分辨率都得到了更大程度上的提高。

PIDS 技術不僅可以直接檢測小至 10 nm 的顆粒，而且還可以直接檢測亞微米范圍內(nèi)的多峰分布。

LS 13 320 XR光學平臺進樣模塊及配件

貨號 描述

B98100 LS 13 320 XR 多波長光學平臺

C27180 LS 13 320 XR 多波長光學平臺，帶工作站
C20930 工作站

B98103 干粉系統(tǒng)模塊 ( DPS )

? 粒度測量范圍：400nm - 3,500μm
? 根據(jù) ISO 13 320 技術標準要求，測量全部取樣樣品
? 設定遮光度參數(shù)以優(yōu)化進樣率
? 用戶可選真空壓力實現(xiàn)分散控制
? 的“龍卷風”干粉分散技術

B98105 通用液體模塊 ( ULM )

? 粒度測量范圍：10nm - 2,000μm
? 全自動稀釋、排/進液及自動清洗
? 分析懸浮于水相或有機相中的樣品，靈活易用
? 與液體接觸材質(zhì)：Teflon®、316 不銹鋼、玻璃、Kal-rez®、PEEK
? 化學相容性：丁醇、丁酮、碳、四氯化物、氯仿、乙醇、庚烷、己烷、噴氣燃料、煤油、酮、甲醇、二氯甲烷、戊烷、石油醚、丙醇、甲苯、、三氯乙烯、水、弱酸弱堿溶液（pH 4 - 10）、乙二醇、聚乙二醇、甘油、礦物油和硅油

B95435 超聲波控制單元

? 探針式超聲波可控制濕樣均勻分散
? 功率全程可調(diào)
? 測樣之前/過程中均可在 ULM 進行超聲處理

C06826 真空吸塵器

? 真空壓力范圍全程可調(diào)
? 集成真空控制裝置，用于優(yōu)化真空/遮光率設置

LS 13 320 XR 技術參數(shù)
技術：前向小角度散射光技術結合 PIDS（偏振光強度差散射）技術，應用三種不同波長的光在垂直和水平偏振方向上，分析六個不同角度的散射光。

同時符合夫瑯和費（Fraunhofer）理論和米氏（ Mie）理論。

光源 ：主光源：785 nm
其它光源（PIDS）：475、613、900 nm

粒度測量范圍：全量程范圍：10 nm - 3,500 μm（峰值）

檢測器數(shù)目： 132 枚硅光電檢測器

分析通道：136 個

準確性誤差： ＜±0.5%

重復性誤差： ＜±0.5%

接口： USB

功耗： 90 - 125 VAC（≤ 6 amp）
220 - 240 VAC（≤ 3 amp）

溫度范圍： 10 - 40°C（50 - 104°F）

相對濕度：0 - 90% （無凝結）

合規(guī)性： 符合 21 CFR 第 11 部分標準要求

RoHS
認證：
– EU EMC 指令2014/30/EU
– CISPR 11:2009/A1:2010

– 澳大利亞和新西蘭法規(guī)符合性標志

數(shù)據(jù)導出文件格式： XLSX、TSV、PDF

文件導入功能： LS 13 320 和 LS 13 320 XR 的測量文件均可導入

軟件操作系統(tǒng)： Windows 10，64位

主機體積：

高：49.53 cm
長：93.98 cm
深：25.4 cm